专为 LED 标准机、拉曼系统、半导体膜厚量测等场景打造的高性能光谱分析设备。
LED 检测:LED 标准机的光谱、色温、显色指数等参数精准测量
拉曼光谱分析:低噪声、高灵敏度满足拉曼信号的弱光检测需求
半导体工业:半导体薄膜厚度、光学常数的高精度量测
通用科研:紫外 - 可见 - 近红外波段的基础光谱分析、材料表征
TEC 制冷降噪效果
开启 TEC 制冷后,5/10 秒积分时间下的暗噪声基线水平显著降低,噪声波动大幅收窄,信号稳定性更强。
对比关闭 TEC 的状态,长积分时间下的噪声水平差距尤为明显,制冷技术有效抑制了热噪声干扰。
动态范围表现
动态范围随曝光时间延长而变化,TEC 开启(0℃)时动态范围下降最慢,表现最优;
TEC 关闭(25℃)时动态范围随曝光时间延长快速衰减,进一步验证了制冷对性能的提升作用。
专为 LED 标准机、拉曼系统、半导体膜厚量测等场景打造的高性能光谱分析设备。
LED 检测:LED 标准机的光谱、色温、显色指数等参数精准测量
拉曼光谱分析:低噪声、高灵敏度满足拉曼信号的弱光检测需求
半导体工业:半导体薄膜厚度、光学常数的高精度量测
通用科研:紫外 - 可见 - 近红外波段的基础光谱分析、材料表征
TEC 制冷降噪效果
开启 TEC 制冷后,5/10 秒积分时间下的暗噪声基线水平显著降低,噪声波动大幅收窄,信号稳定性更强。
对比关闭 TEC 的状态,长积分时间下的噪声水平差距尤为明显,制冷技术有效抑制了热噪声干扰。
动态范围表现
动态范围随曝光时间延长而变化,TEC 开启(0℃)时动态范围下降最慢,表现最优;
TEC 关闭(25℃)时动态范围随曝光时间延长快速衰减,进一步验证了制冷对性能的提升作用。